អាសូត Trifluoride (NF3) ឧស្ម័នបរិសុទ្ធ

ភ្នាក់ងារសម្អាតនៅក្នុងឧស្សាហកម្មអេឡិចត្រូនិក៖ NF3 ត្រូវបានគេប្រើយ៉ាងទូលំទូលាយជាភ្នាក់ងារសម្អាតសម្រាប់យកសារធាតុកខ្វក់ដែលនៅសេសសល់ ដូចជាអុកស៊ីដចេញពីផ្ទៃនៃ semiconductors បន្ទះបង្ហាញប្លាស្មា (PDPs) និងសមាសធាតុអេឡិចត្រូនិចផ្សេងទៀត។ វា​អាច​សម្អាត​ផ្ទៃ​ទាំង​នេះ​បាន​យ៉ាង​មាន​ប្រសិទ្ធភាព​ដោយ​មិន​ធ្វើ​ឱ្យ​ខូច​ខាត​ឡើយ។

Etching gas នៅក្នុងការផលិត semiconductor: NF3 ត្រូវបានប្រើជាឧស្ម័ន etching នៅក្នុងដំណើរការផលិត semiconductors ។ វាមានប្រសិទ្ធភាពជាពិសេសក្នុងការឆ្លាក់ស៊ីលីកុនឌីអុកស៊ីត (SiO2) និងស៊ីលីកុននីត្រាត (Si3N4) ដែលជាវត្ថុធាតុដើមទូទៅដែលប្រើក្នុងការបង្កើតសៀគ្វីរួមបញ្ចូលគ្នា។

ការផលិតសមាសធាតុហ្វ្លុយអូរីនដែលមានភាពបរិសុទ្ធខ្ពស់៖ NF3 គឺជាប្រភពដ៏មានតម្លៃនៃហ្វ្លុយអូរីនសម្រាប់ផលិតសមាសធាតុហ្វ្លុយអូរីនផ្សេងៗ។ វា​ត្រូវ​បាន​គេ​ប្រើ​ជា​មុន​គេ​ក្នុង​ការ​ផលិត​សារធាតុ fluoropolymer, fluorocarbons និង​សារធាតុ​គីមី​ពិសេស។

ការបង្កើតប្លាស្មានៅក្នុងការផលិតអេក្រង់រាបស្មើ៖ NF3 ត្រូវបានប្រើរួមជាមួយឧស្ម័នផ្សេងទៀតដើម្បីបង្កើតប្លាស្មាក្នុងការផលិតអេក្រង់បន្ទះរាបស្មើ ដូចជាអេក្រង់គ្រីស្តាល់រាវ (LCDs) និង PDPs។ ប្លាស្មាគឺចាំបាច់នៅក្នុងដំណើរការនៃការដាក់ និងឆ្លាក់កំឡុងពេលផលិតបន្ទះ។

ចំណាំថាកម្មវិធី និងបទប្បញ្ញត្តិជាក់លាក់សម្រាប់ការប្រើប្រាស់សម្ភារៈ/ផលិតផលនេះអាចប្រែប្រួលទៅតាមប្រទេស ឧស្សាហកម្ម និងគោលបំណង។ អនុវត្តតាមការណែនាំសុវត្ថិភាពជានិច្ច ហើយពិគ្រោះជាមួយអ្នកជំនាញ មុនពេលប្រើប្រាស់សម្ភារៈ/ផលិតផលនេះនៅក្នុងកម្មវិធីណាមួយ។